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Intrinsic anomalous surface roughening of TiN films deposited by reactive sputtering

Intrinsic anomalous surface roughening of TiN films deposited by reactive sputtering

Intrinsic anomalous surface roughening of TiN films deposited by reactive sputtering

tipo de documento Publicacion

Etiquetas: si, cu, chemical-vapor-deposition, x-ray reflectivity, density, growth, instability, interfaces, roughness, microstructure

Publicado en: revista: physical review b, periodo: 1, volumen: online, número: 4, página inicial: 045436.1, página final: 045436.7

Fecha publicación: 15/01/2006

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