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Growth dynamics of reactive-sputtering-deposited AlN films

Growth dynamics of reactive-sputtering-deposited AlN films

Growth dynamics of reactive-sputtering-deposited AlN films

tipo de documento Publicacion

Etiquetas: buffer layers, acoustic-wave devices, microscop, aluminum nitride films, x-ray reflectivity, chemical-vapor-deposition, surface-roughness, instability

Publicado en: revista: journal of applied physics, periodo: 1, volumen: online, número: 12, página inicial: 123528.1, página final: 123528.8

Fecha publicación: 01/06/2005

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