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    Kinetics of HfO2 etching and impurity elimination with atomichydrogen beamsclose

    Kinetics of HfO2 etching and impurity elimination with atomichydrogen beams

    tipo de documento Publicacion

    ...

    Etiquetas: hidrógeno atómico, atomic hydrogen, ultra-thin films, capas ultra-delgadas, impurity, hfo2, impureza, ataque, hafnio, etching, hafnium

    Publicado en: revista: applied surface science, periodo: 12, volumen: 566, número: 566, página inicial: 150607-1, página final: 150607-10

    Fecha publicación: 15/11/2021

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