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Concurrent segregation and erosion effects in medium-energy iron beam patterning of silicon surfaces

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tipo de documento Publicacion

Etiquetas: ion beam sputtering, iron silicide, patterning, silicon, implantation

Publicado en: revista: journal of physics: condensed matter, periodo: 1, volumen: online, número: 27, página inicial: 274001-1, página final: 274001-14

Fecha publicación: 11/07/2018

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