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Intrinsic anomalous surface roughening of TiN films deposited by reactive sputtering

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Intrinsic anomalous surface roughening of TiN films deposited by reactive sputtering

tipo de documento Publicacion

Etiquetas: si, cu, chemical-vapor-deposition, x-ray reflectivity, density, growth, instability, interfaces, roughness, microstructure

Publicado en: revista: physical review b, periodo: 1, volumen: online, número: 4, página inicial: 045436.1, página final: 045436.7

Fecha publicación: 15/01/2006

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