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Multiparticle biased diffusion-limited aggregation with surface diffusion: A comprehensive model of electrodeposition

Multiparticle biased diffusion-limited aggregation with surface diffusion: A comprehensive model of electrodeposition

Multiparticle biased diffusion-limited aggregation with surface diffusion: A comprehensive model of electrodeposition

tipo de documento Publicacion

Autores: Cuerno Rejado, Rodolfo, Castro Ponce, Mario, Sánchez, A., Dominguez Adame, F.

Etiquetas: pattern-formation, morphological evolution, electrochemical deposition, monte-carlo simulation, fractal dimension, thin-layer electrodeposition, dendr

Publicado en: revista: physical review e, periodo: 1, volumen: 62, número: 1, página inicial: 161, página final: 173

Fecha publicación: 01/07/2000

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