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Etiquetas: hidrógeno atómico, atomic hydrogen, ultra-thin films, capas ultra-delgadas, impurity, hfo2, impureza, ataque, hafnio, etching, hafnium

Publicado en: revista: applied surface science, periodo: 12, volumen: 566, número: 566, página inicial: 150607-1, página final: 150607-10

Fecha publicación: 15/11/2021

Autores: Tejedor Jorge, Paloma, Molina Aldereguia, Jon, Vázquez Burgos, Luís, Benedicto Córdoba, Marcos, Galiana Blanco, Beatriz

Etiquetas: recocido, hfo2, high-k, transistor, nanotecnología, nanotechnology, eds, patterns, gaas, patrones, afm, iii-v, tem, annealing

Publicado en: revista: nanoscale, periodo: 12, volumen: 4, número: 4, página inicial: 3734, página final: 3738

Fecha publicación: 26/04/2012

Autores: Tejedor Jorge, Paloma, Cherkaoui, K., Molina Aldereguia, Jon, Vázquez Burgos, Luís, Benedicto Córdoba, Marcos, Monaghan, S., Hurley, P.K., Galiana Blanco, Beatriz

Etiquetas: hrsem, high-k, linl, hfo2, tem. eds, nanotecnología, transistor, nanotechnology, rie, gaas, afm, iii-v

Publicado en: revista: nanoscale research letters, periodo: 12, volumen: 6, número: 6, página inicial: 400, página final: 400

Fecha publicación: 31/05/2011