Fabrication of HfO2 patterns by laser interference nanolithography and selective dry etching for III-V CMOS application
tipo de documento semantico ckh_publication
Ficheros
Fabrication of HfO2 pattern by laser interference nanolithography and selective dry etching for III-V CMOS applications (NRL).pdf
Tamaño
1120620
Formato
Adobe PDF
Url del contenido
https://repositorio.comillas.edu/rest/bitstreams/28717/retrieve
Fecha de publicación
31/05/2011
Autor
Benedicto Córdoba, Marcos
Galiana Blanco, Beatriz
Molina Aldereguia, Jon
Monaghan, S.
Hurley, P.K.
Cherkaoui, K.
Vázquez Burgos, Luís
Tejedor Jorge, Paloma
Fuente
Revista: Nanoscale Research Letters, Periodo: 12, Volumen: 6, Número: 6, Página inicial: 400, Página final: 400
Estado
info:eu-repo/semantics/publishedVersion
Resumen
Idioma
es-ES
Resumen
Se describe la nanoestructuración de películas ultrafinas de HfO2 depositadas sobre sustratos de GaAs (001) por nanolitografía por interferencia láser de alta resolución de Lloyd. La transferencia del patrón a la película HfO2 se llevó a cabo mediante grabado por haz de iones reactivos utilizando plasmas de CF4 y O2.
Idioma
en-GB
Resumen
Nanostructuring of ultrathin HfO2 films deposited on GaAs (001) substrates by high-resolution Lloyd s mirror laser interference nanolithography is described. Pattern transfer to the HfO2 film was carried out by reactive ion beam etching using CF4 and O2 plasmas.
Uri identificador
http://hdl.handle.net/11531/12067
Palabras clave
Idioma
es-ES
Tag
Nanotecnología
Idioma
es-ES
Tag
high-k
Idioma
es-ES
Tag
III-V
Idioma
es-ES
Tag
HfO2
Idioma
es-ES
Tag
GaAs
Idioma
es-ES
Tag
AFM
Idioma
es-ES
Tag
HRSEM
Idioma
es-ES
Tag
TEM. EDS
Idioma
es-ES
Tag
LInL
Idioma
es-ES
Tag
RIE
Idioma
es-ES
Tag
transistor
Idioma
en-GB
Tag
Nanotechnology
Idioma
en-GB
Tag
high-k
Idioma
en-GB
Tag
III-V
Idioma
en-GB
Tag
HfO2
Idioma
en-GB
Tag
GaAs
Idioma
en-GB
Tag
AFM
Idioma
en-GB
Tag
HRSEM
Idioma
en-GB
Tag
TEM. EDS
Idioma
en-GB
Tag
LInL
Idioma
en-GB
Tag
RIE
Idioma
en-GB
Tag
transistor
Tipo de archivo
application/pdf
Idioma
en-GB
Tipo de acceso
info:eu-repo/semantics/openAccess
Licencia
http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/es/
Fecha de modificacion
12/12/2016
Fecha de disponibilidad
31/08/2016
fecha de alta
31/08/2016
