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Kinetics of HfO2 etching and impurity elimination with atomichydrogen beams

Kinetics of HfO2 etching and impurity elimination with atomichydrogen beams

Kinetics of HfO2 etching and impurity elimination with atomichydrogen beams

tipo de documento Publicacion

Etiquetas: hidrógeno atómico, atomic hydrogen, ultra-thin films, capas ultra-delgadas, impurity, hfo2, impureza, ataque, hafnio, etching, hafnium

Publicado en: revista: applied surface science, periodo: 12, volumen: 566, número: 566, página inicial: 150607-1, página final: 150607-10

Fecha publicación: 15/11/2021

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